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Modelo :
MO-D330-6Garantía :
1 yearIrradiancia a 1 m :
>100 mW/cm²Uniformidad :
±10%Irradiancia central de 172 nm :
>70 mW/cm² @3mmVida útil promedio (irradiancia ≥70%) :
2,500 hrsTamaño :
(350×350mm irradiation window)Humedad de funcionamiento :
20%~80%Temperatura de funcionamiento :
-5°C~30°CPotencia total :
1200W ±10%Voltaje de entrada (V) :
AC 110~240VComo fabricante profesional de lámparas excimer chinas
La luz VUV de 172 nm es altamente oxidante. Descompone la suciedad orgánica y las partículas diminutas en las obleas, sin dejar residuos. Esto garantiza una fabricación precisa de semiconductores.
Las lámparas de excímero de 172 nm emiten luz ultravioleta de alta energía. Eliminan las impurezas de las máscaras de los paneles OLED/pantallas, lo que previene defectos en los píxeles y las hace compatibles con las líneas de producción de BOE, TCL y CSOT.
Para la limpieza de máscaras metálicas finas FMM, lámpara UV, lámpara excimer de 172 nm para limpieza de máscaras Invar,
Limpieza UV de máscaras de evaporación OLED, limpieza de máscaras metálicas VUV de 172 nm
La luz VUV de 172 nm descompone los compuestos orgánicos de estas máscaras. No daña la estructura de las máscaras, lo que garantiza un posicionamiento preciso de los píxeles. Esto mejora directamente el rendimiento de la producción.
Sistema de recubrimiento por rodillo VUV de 172 nm, matificación UV con excímero.
La luz UV de excímero de 172 nm modifica las superficies de las películas. Crea una textura rugosa para lograr un acabado mate y una mejor adherencia del recubrimiento. Funciona en procesos de recubrimiento continuo con rodillo.
Irradiancia superficial > 100 mW/cm²; 70 mW/cm² (@3mm). Elimina eficazmente los contaminantes orgánicos.
Electrodos de primera calidad y control preciso del gas. Vida útil básica superior a 2500 horas. Garantía de 1000 horas, con protección contra desgaste. < 30%. Hasta 3000 horas o más para uso profesional.
Ventana de irradiación de 350 × 350 mm, uniformidad ±10 %. El tamaño de la ventana se puede personalizar según sus necesidades.
No requiere precalentamiento, arranque instantáneo. Admite funcionamiento a alta frecuencia y sistema de recubrimiento por rodillos rollo a rollo.
Funcionamiento fiable entre -5 °C y 30 °C, ideal para salas blancas y zonas con temperatura controlada.
Trabajamos con diversos equipos de producción. Ofrecemos soluciones personalizadas con entrega rápida y sin costes de desarrollo.
Utiliza una fuente de luz ultravioleta de 172 nm libre de mercurio, lo que garantiza la seguridad y la protección del medio ambiente.
Respaldados por 30 años de experiencia en el campo de la luz ultravioleta y la fabricación de equipos, con capacidad de producción a gran escala, alta consistencia del producto, rendimiento estable y entrega confiable y puntual.
Sistema de gestión de calidad certificado que garantiza estándares de fabricación de primera calidad.
Cumple plenamente con la legislación europea en materia de salud, seguridad y protección del medio ambiente.
Fabricación ecológica totalmente libre de sustancias peligrosas.
Estándar norteamericano de máxima calidad que cumple con la normativa de seguridad eléctrica y prevención de incendios.
La lámpara de excímero VUV de 172 nm genera luz ultravioleta de vacío de alta energía mediante descarga de gas. Se caracteriza por una alta energía fotónica, que supera con creces la energía de enlace de las moléculas orgánicas comunes.
Gracias a su gran capacidad para romper enlaces moleculares, la luz descompone directamente los contaminantes orgánicos. Además, produce especies reactivas de oxígeno que potencian la limpieza y la eliminación del COT.
Como alternativa fiable a las lámparas de excímero Ushio y a las lámparas Hamamatsu de 172 nm, es adecuada para la limpieza de semiconductores, la limpieza de placas frías, el tratamiento de agua en unidades de desinfección química (CDU) y agua ultrapura (UPW), el proceso de matizado de películas y otros escenarios industriales.
Diseñado para sistemas de agua ultrapura (UPW), este producto ecológico y libre de mercurio Módulo VUV de 172 nm Este sistema activa una potente oxidación radicalaria que reduce el COT a niveles de ppb. Al convertir los compuestos orgánicos en trazas de CO₂ y H₂O, ofrece una solución ideal de purificación de agua para la industria de semiconductores, farmacéutica y laboratorios. Su diseño modular inteligente simplifica el mantenimiento in situ y la ampliación del sistema, con soporte completo para niveles de potencia y caudales personalizados.
Mejore la precisión de su tratamiento de superficies con GMY. Lámparas de excímero de 172 nmUtilizando tecnología avanzada oxidación fotoquímicaNuestras soluciones de luz ultravioleta de 172 nm, libres de mercurio, descomponen eficazmente los contaminantes orgánicos para lograr una limpieza a nivel atómico en obleas semiconductoras, sustratos de pantallas y dispositivos ópticos.
Descubra la alta eficiencia de GMY lámparas de excímero de 172 nm para fotocurado industrialLuz VUV potente de 350W-1000W, libre de mercurio, para reticulación rápida de superficies, acabado mate y modificación de recubrimientos PPF/PCB. En comparación con el curado UV tradicional, acorta el tiempo de curado y mejora los efectos de modificación de la superficie.
El Módulo de fotomodificación GMY de 172 nm Este módulo se presenta como la solución principal compatible con vacío para activar la hidrofilia de los implantes dentales. Mediante la precisa tecnología de excímeros de 172 nm, purifica las superficies de titanio descomponiendo los hidrocarburos orgánicos, lo que mejora drásticamente la bioactividad del TiO2 y la osteointegración. Diseñado para una integración perfecta con el dispositivo, este módulo destaca por su alta potencia, mínimo impacto térmico, ciclo de reacción rápido y amplia cobertura de haz homogénea.
GMY lámparas de excímero de 172 nm ofrecer radiación VUV de alta energía a degradar el COT Hasta niveles de ppb en agua ultrapura. Lámparas de 15 W/20 W sin mercurio para el tratamiento de aguas industriales. Al generar radicales libres, nuestros sistemas de luz UV oxidan la materia orgánica transformándola en moléculas de CO₂ y H₂O. Esta tecnología avanzada es especialmente adecuada para la producción de agua ultrapura.
El Dispositivo UV de excímero de 172 nm entrega fotolimpieza de alta energía y modificación de la superficie a nivel nanométrico para semiconductores, baterías y materiales avanzados. Utilizando fotones UV fríos de 172 nm, este sistema compacto rompe los enlaces químicos orgánicos y oxida los contaminantes sin dañar el sustrato. Con una alta uniformidad de ±15% Con temperaturas de funcionamiento inferiores a 40 °C, ofrece una alternativa ecológica y de bajo consumo a las lámparas de mercurio de baja presión tradicionales.
