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Módulo de eliminación de contaminantes orgánicos a nanoescala

Módulo de eliminación de contaminantes orgánicos a nanoescala

  • 172nm excimer lamp module
    Módulo de lámpara excimer de 172 nm, oblea semiconductora y máscara, limpieza UV, película FMM/Invar, revestimiento.
    Elimina contaminantes orgánicos a nanoescala. Se utiliza ampliamente para la limpieza UV de obleas semiconductoras, la limpieza de máscaras metálicas finas FMM, la limpieza de máscaras Invar, la limpieza de máscaras de evaporación OLED y la limpieza de fotomáscaras. También se emplea para la limpieza UV de PCB y el matizado UV con excímeros en líneas de recubrimiento por rodillos. Constituye una alternativa rentable a las lámparas de excímeros de 172 nm de Hamamatsu y Ushio.

    Limpieza de obleas y FMM

    Recubrimiento y matizado de películas

    Eliminación de partículas orgánicas mediante placa fría

    Modificación hidrofílica

    APRENDE MÁS

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