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Lámpara de excímero de 172 nm

Lámpara de excímero de 172 nm

  • Módulo de lámpara excimer de 172 nm, oblea semiconductora y máscara, limpieza UV, película FMM/Invar, revestimiento.
    Elimina contaminantes orgánicos a nanoescala. Se utiliza ampliamente para la limpieza UV de obleas semiconductoras, la limpieza de máscaras metálicas finas FMM, la limpieza de máscaras Invar, la limpieza de máscaras de evaporación OLED y la limpieza de fotomáscaras. También se emplea para la limpieza UV de PCB y el matizado UV con excímeros en líneas de recubrimiento por rodillos. Constituye una alternativa rentable a las lámparas de excímeros de 172 nm de Hamamatsu y Ushio.

    Limpieza de obleas y FMM

    Recubrimiento y matizado de películas

    Eliminación de partículas orgánicas mediante placa fría

    Modificación hidrofílica

  • Módulo de excímero de 172 nm para la eliminación de partículas orgánicas mediante placas frías, reducción de COT y purificación de agua.

    Diseñado para sistemas de agua ultrapura (UPW), este producto ecológico y libre de mercurio Módulo VUV de 172 nm Este sistema activa una potente oxidación radicalaria que reduce el COT a niveles de ppb. Al convertir los compuestos orgánicos en trazas de CO₂ y H₂O, ofrece una solución ideal de purificación de agua para la industria de semiconductores, farmacéutica y laboratorios. Su diseño modular inteligente simplifica el mantenimiento in situ y la ampliación del sistema, con soporte completo para niveles de potencia y caudales personalizados.

    Índice de componentes de la UPW de semiconductores

    Agua pura farmacéutica TOC

    Agua ultrapura de laboratorio

    Sistemas de reducción de TOC en línea

  • Integración industrial: Lámparas de excímero de 172 nm para fotolimpieza de superficies

    Mejore la precisión de su tratamiento de superficies con GMY. Lámparas de excímero de 172 nmUtilizando tecnología avanzada oxidación fotoquímicaNuestras soluciones de luz ultravioleta de 172 nm, libres de mercurio, descomponen eficazmente los contaminantes orgánicos para lograr una limpieza a nivel atómico en obleas semiconductoras, sustratos de pantallas y dispositivos ópticos.

    Sustratos de visualización

    Obleas de silicio semiconductoras y circuitos integrados

    Circuitos integrados

    Dispositivos ópticos

    Producción de pantallas LCD

    Papel electrónico

    Lentes de realidad aumentada

    Fabricación micro-nano

  • Modificación de recubrimientos de fotocurado de superficie mate mediante lámpara excimer de alta potencia de 172 nm

    Descubra la alta eficiencia de GMY lámparas de excímero de 172 nm para fotocurado industrialLuz VUV potente de 350W-1000W, libre de mercurio, para reticulación rápida de superficies, acabado mate y modificación de recubrimientos PPF/PCB. En comparación con el curado UV tradicional, acorta el tiempo de curado y mejora los efectos de modificación de la superficie.

    Películas de protección de pintura

    Paneles de tacto suave

    Equipos de recubrimiento

    Tintas para papel y embalaje

    Tintas para muebles

    Tintas para automoción y recubrimientos relacionados

    Recubrimientos pigmentados y transparentes

    Tintas para PCB

    Recubrimientos adhesivos

    Impresión 3D

     

  • Módulo de fotomodificación de excímero de 172 nm para implantes dentales

    El Módulo de fotomodificación GMY de 172 nm Este módulo se presenta como la solución principal compatible con vacío para activar la hidrofilia de los implantes dentales. Mediante la precisa tecnología de excímeros de 172 nm, purifica las superficies de titanio descomponiendo los hidrocarburos orgánicos, lo que mejora drásticamente la bioactividad del TiO2 y la osteointegración. Diseñado para una integración perfecta con el dispositivo, este módulo destaca por su alta potencia, mínimo impacto térmico, ciclo de reacción rápido y amplia cobertura de haz homogénea.

    Modificación de superficies

    Eliminación de contaminantes orgánicos

    Limpieza ultrafina

  • Módulo de lámpara excimer mini de 172 nm para procesamiento de semiconductores

    El Módulo de excímeros MINl de 172 nm es una solución de escritorio compacta y plug-and-play para I+D de semiconductores y validación de laboratorioMediante la emisión de radiación ultravioleta de vacío (VUV) de onda corta, rompe los enlaces moleculares para eliminar los contaminantes orgánicos y modificar la energía superficial sin dañar el sustrato, lo que proporciona una plataforma ágil de validación de procesos para laboratorios de investigación y universidades.

    Pantalla flexible

    Películas delgadas ópticas

    Pretratamiento antes del recubrimiento

  • Dispositivo de limpieza UV de alta energía con excímero de 172 nm para modificación de la superficie de baterías de semiconductores

    El Dispositivo UV de excímero de 172 nm entrega fotolimpieza de alta energía y modificación de la superficie a nivel nanométrico para semiconductores, baterías y materiales avanzados. Utilizando fotones UV fríos de 172 nm, este sistema compacto rompe los enlaces químicos orgánicos y oxida los contaminantes sin dañar el sustrato. Con una alta uniformidad de ±15% Con temperaturas de funcionamiento inferiores a 40 °C, ofrece una alternativa ecológica y de bajo consumo a las lámparas de mercurio de baja presión tradicionales.

    Longitud de onda de 172 nm

    > 45 mW/cm²Intensidad

    30 litros por minutoAporte de nitrógeno

  • Degradación de COT en agua ultrapura mediante lámpara de excímero de 172 nm

    GMY lámparas de excímero de 172 nm ofrecer radiación VUV de alta energía a degradar el COT Hasta niveles de ppb en agua ultrapura. Lámparas de 15 W/20 W sin mercurio para el tratamiento de aguas industriales. Al generar radicales libres, nuestros sistemas de luz UV oxidan la materia orgánica transformándola en moléculas de CO₂ y H₂O. Esta tecnología avanzada es especialmente adecuada para la producción de agua ultrapura.

    Eliminación de COT del agua ultrapura

    Contaminantes traza en el agua potable

    Descomposición de residuos de plaguicidas

    Tratamiento de aguas residuales de tintes textiles

    Generación de ozono de alta pureza

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