

Limpieza de obleas y FMM
Recubrimiento y matizado de películas
Eliminación de partículas orgánicas mediante placa fría
Modificación hidrofílica
Diseñado para sistemas de agua ultrapura (UPW), este producto ecológico y libre de mercurio Módulo VUV de 172 nm Este sistema activa una potente oxidación radicalaria que reduce el COT a niveles de ppb. Al convertir los compuestos orgánicos en trazas de CO₂ y H₂O, ofrece una solución ideal de purificación de agua para la industria de semiconductores, farmacéutica y laboratorios. Su diseño modular inteligente simplifica el mantenimiento in situ y la ampliación del sistema, con soporte completo para niveles de potencia y caudales personalizados.
Índice de componentes de la UPW de semiconductores
Agua pura farmacéutica TOC
Agua ultrapura de laboratorio
Sistemas de reducción de TOC en línea
Mejore la precisión de su tratamiento de superficies con GMY. Lámparas de excímero de 172 nmUtilizando tecnología avanzada oxidación fotoquímicaNuestras soluciones de luz ultravioleta de 172 nm, libres de mercurio, descomponen eficazmente los contaminantes orgánicos para lograr una limpieza a nivel atómico en obleas semiconductoras, sustratos de pantallas y dispositivos ópticos.
Sustratos de visualización
Obleas de silicio semiconductoras y circuitos integrados
Circuitos integrados
Dispositivos ópticos
Producción de pantallas LCD
Papel electrónico
Lentes de realidad aumentada
Fabricación micro-nano
Descubra la alta eficiencia de GMY lámparas de excímero de 172 nm para fotocurado industrialLuz VUV potente de 350W-1000W, libre de mercurio, para reticulación rápida de superficies, acabado mate y modificación de recubrimientos PPF/PCB. En comparación con el curado UV tradicional, acorta el tiempo de curado y mejora los efectos de modificación de la superficie.
Películas de protección de pintura
Paneles de tacto suave
Equipos de recubrimiento
Tintas para papel y embalaje
Tintas para muebles
Tintas para automoción y recubrimientos relacionados
Recubrimientos pigmentados y transparentes
Tintas para PCB
Recubrimientos adhesivos
Impresión 3D
El Módulo de fotomodificación GMY de 172 nm Este módulo se presenta como la solución principal compatible con vacío para activar la hidrofilia de los implantes dentales. Mediante la precisa tecnología de excímeros de 172 nm, purifica las superficies de titanio descomponiendo los hidrocarburos orgánicos, lo que mejora drásticamente la bioactividad del TiO2 y la osteointegración. Diseñado para una integración perfecta con el dispositivo, este módulo destaca por su alta potencia, mínimo impacto térmico, ciclo de reacción rápido y amplia cobertura de haz homogénea.
Modificación de superficies
Eliminación de contaminantes orgánicos
Limpieza ultrafina
El Módulo de excímeros MINl de 172 nm es una solución de escritorio compacta y plug-and-play para I+D de semiconductores y validación de laboratorioMediante la emisión de radiación ultravioleta de vacío (VUV) de onda corta, rompe los enlaces moleculares para eliminar los contaminantes orgánicos y modificar la energía superficial sin dañar el sustrato, lo que proporciona una plataforma ágil de validación de procesos para laboratorios de investigación y universidades.
Pantalla flexible
Películas delgadas ópticas
Pretratamiento antes del recubrimiento
El Dispositivo UV de excímero de 172 nm entrega fotolimpieza de alta energía y modificación de la superficie a nivel nanométrico para semiconductores, baterías y materiales avanzados. Utilizando fotones UV fríos de 172 nm, este sistema compacto rompe los enlaces químicos orgánicos y oxida los contaminantes sin dañar el sustrato. Con una alta uniformidad de ±15% Con temperaturas de funcionamiento inferiores a 40 °C, ofrece una alternativa ecológica y de bajo consumo a las lámparas de mercurio de baja presión tradicionales.
Longitud de onda de 172 nm
> 45 mW/cm²Intensidad
30 litros por minutoAporte de nitrógeno
GMY lámparas de excímero de 172 nm ofrecer radiación VUV de alta energía a degradar el COT Hasta niveles de ppb en agua ultrapura. Lámparas de 15 W/20 W sin mercurio para el tratamiento de aguas industriales. Al generar radicales libres, nuestros sistemas de luz UV oxidan la materia orgánica transformándola en moléculas de CO₂ y H₂O. Esta tecnología avanzada es especialmente adecuada para la producción de agua ultrapura.
Eliminación de COT del agua ultrapura
Contaminantes traza en el agua potable
Descomposición de residuos de plaguicidas
Tratamiento de aguas residuales de tintes textiles
Generación de ozono de alta pureza