semiconductor wafer dry cleaning UV light

Integración industrial: Lámparas de excímero de 172 nm para fotolimpieza de superficies

Name: Integración industrial: Lámparas de excímero de 172 nm para fotolimpieza de superficies
Availability: InStock

Mejore la precisión de su tratamiento de superficies con GMY. Lámparas de excímero de 172 nmUtilizando tecnología avanzada oxidación fotoquímicaNuestras soluciones de luz ultravioleta de 172 nm, libres de mercurio, descomponen eficazmente los contaminantes orgánicos para lograr una limpieza a nivel atómico en obleas semiconductoras, sustratos de pantallas y dispositivos ópticos.

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Especificaciones del producto

Modelo	Fuerza	Tamaño del tubo (Diámetro × Longitud)	Longitud de emisión	Código de producto
172E860D40×957	860 W	φ40 × 957 mm	860 mm	A520121 4001000
172E172D26.5×908	172W	φ26,5 × 908 mm	842 mm	A5201215001000

Características principales

01 Funcionamiento sin mercurio

Tratamiento UV al vacío 100% ecológico que cumple plenamente con las restricciones internacionales RoHS, eliminando los peligrosos riesgos del mercurio y los riesgos de eliminación de residuos en salas blancas.

02 Los fotones de alta energía generan radicales hidroxilo (HO*).

Emite longitudes de onda VUV de alta energía para ionizar continuamente las moléculas de oxígeno ambiental, produciendo radicales hidroxilo reactivos de alta densidad (HO*) para la rápida ruptura de enlaces orgánicos.

03 Calidad constante y entrega confiable con gran capacidad de producción.

Respaldados por líneas de producción a escala industrial masiva, que garantizan una uniformidad total de los lotes, rigurosas pruebas de envejecimiento previas al envío y una fiabilidad a prueba de balas en la cadena de suministro.

04 Diseño de lámpara personalizable para una aplicación flexible.

Longitudes de arco, dimensiones de la envolvente, terminales de tapa eléctrica multipin y controles de balasto a medida para lograr una integración mecánica perfecta en herramientas personalizadas.

172 nm Lámparas de excímeros - Limpieza de fotos

Mejore la precisión de su tratamiento de superficies con las lámparas de excímero de 172 nm de GMY. Utilizando oxidación fotoquímica,
Nuestras soluciones de luz UV de 172 nm, libres de mercurio, descomponen eficazmente los contaminantes orgánicos.
para lograr una limpieza a nivel atómico en obleas semiconductoras, sustratos de pantallas y dispositivos ópticos.

La lámpara de excímero de 172 nm es una fuente de luz ultravioleta de vacío de próxima generación diseñada
Especialmente indicado para la limpieza en seco de alta eficiencia y la modificación de superficies.
Operando según el principio de oxidación fotoquímica directa,
Los fotones VUV de 172 nm transportan la energía necesaria para romper los enlaces moleculares de los contaminantes orgánicos en la superficie del material.
Simultáneamente, la luz reacciona con el oxígeno ambiental, dejando la superficie objetivo con un nivel de limpieza atómica sin dañar la estructura del sustrato.

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Solicitud Campos

Sustratos de visualización

Ofrece un procesamiento en seco VUV a macroescala para grandes superficies de láminas de vidrio. Elimina eficazmente los residuos multimoleculares antes del procesamiento de las capas de la matriz para garantizar la máxima uniformidad y reducir los índices de rechazo.

Obleas de silicio semiconductoras

Elimina cúmulos orgánicos invisibles e hidrocarburos presentes en el aire de las superficies de silicio en bruto hasta el nivel atómico. Prepara patrones críticos de la oblea para las pistas de litografía nativas y las capas de apilamiento de óxido.

Circuitos integrados

Descontamina las microprotuberancias y los diseños de interconexión de circuitos integrados de alta densidad antes del ensamblaje flip-chip. Limpia las pistas de los terminales para mejorar drásticamente la adhesión del encapsulado y eliminar la deslaminación del paquete.

Dispositivos ópticos

Proporciona una limpieza en seco sin contacto y con fuente fría para prismas delicados, componentes cristalinos y ópticas láser avanzadas. Protege las capas antirreflectantes de película delgada de las marcas de la limpieza manual y las manchas de disolvente.

Producción de pantallas LCD

Limpia placas de cristal líquido de transistores de película delgada (TFT), filtros de color y objetivos polarizadores. Maximiza la humectabilidad de la superficie para garantizar una distribución uniforme del material durante el procesamiento en líneas de ensamblaje de alta velocidad.

Papel electrónico

Optimiza las capas de soporte de polímeros complejos y los paneles de matriz en pantallas de papel electrónico flexibles. Aumenta significativamente la densidad de reticulación interfacial sin introducir distorsiones térmicas estructurales.

Lentes de realidad aumentada

Realiza una fotolimpieza de precisión en lentes inteligentes portátiles de resina o vidrio. Reduce drásticamente los ángulos de contacto con el agua superficial antes de los procesos de deposición de vapor para garantizar recubrimientos ópticos duraderos y sin rayas.

Fabricación micro-nano

Desencadena la modificación química y la inserción de grupos polares funcionales (-OH, -COOH) en resinas poliméricas y sistemas microfluídicos de laboratorio en un chip, estableciendo canales capilares de sustrato sólido y una unión permanente.

Certificaciones y cumplimiento

ISO

ISO 9001/14001

Sistema de gestión de calidad certificado que garantiza un estándar de fabricación superior.

Certificado CE

Cumple plenamente con la legislación europea en materia de salud, seguridad y protección del medio ambiente.

RoHS

Cumple con la normativa ROHS

Fabricación ecológica totalmente libre de sustancias peligrosas.

Certificado por UL

Estándar norteamericano de máxima calidad que cumple con la normativa de seguridad eléctrica y prevención de incendios.

Preguntas frecuentes

Q ¿Qué hace que las lámparas de excímero de 172 nm sean superiores a las lámparas UV tradicionales de 185 nm para la fotolimpieza?

A diferencia de las lámparas de mercurio de baja presión (185 nm/254 nm), la luz excímera de 172 nm emite una energía de fotón único significativamente mayor, capaz de romper directamente los fuertes enlaces moleculares carbono-carbono en los compuestos orgánicos. Además, la luz de 172 nm presenta coeficientes de absorción excepcionalmente altos en las capas de aire comunes, lo que le permite generar radicales hidroxilo de alta densidad ($HO^\bullet$) y ozono nativo simultáneamente, acelerando exponencialmente la tasa de eliminación de la contaminación orgánica.

Q ¿Estas lámparas excimer industriales de alta potencia están libres de mercurio?

Sí, todas las lámparas de excímero GMY de 172 nm funcionan mediante descargas de barrera dieléctrica (DBD) totalmente libres de mercurio. Esto cumple plenamente con los estrictos estándares de fábricas sostenibles, la normativa RoHS y las directrices medioambientales modernas, lo que las hace seguras para instalaciones de salas blancas y fáciles de desechar al final de su vida útil.

Q ¿Podemos integrar estas lámparas directamente en líneas transportadoras automatizadas de alta velocidad?

Por supuesto. Gracias al diseño de encendido instantáneo de la tecnología de excímeros, estas lámparas no requieren los largos periodos de calentamiento asociados a las bombillas de mercurio. Se encienden y apagan instantáneamente mediante activadores de cinta transportadora, lo que evita la sobrecarga térmica durante paradas inesperadas del sistema y permite una gran flexibilidad de integración.

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