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Dispositivo de limpieza UV de alta energía con excímero de 172 nm para modificación de la superficie de baterías de semiconductores
Semiconductor Surface Modification Device
dry organic contaminant removal machine

Dispositivo de limpieza UV de alta energía con excímero de 172 nm para modificación de la superficie de baterías de semiconductores

El Dispositivo UV de excímero de 172 nm entrega fotolimpieza de alta energía y modificación de la superficie a nivel nanométrico para semiconductores, baterías y materiales avanzados. Utilizando fotones UV fríos de 172 nm, este sistema compacto rompe los enlaces químicos orgánicos y oxida los contaminantes sin dañar el sustrato. Con una alta uniformidad de ±15% Con temperaturas de funcionamiento inferiores a 40 °C, ofrece una alternativa ecológica y de bajo consumo a las lámparas de mercurio de baja presión tradicionales.

  • Modelo :

    EX-C300

  • Temperatura de funcionamiento :

    -5℃~50℃

  • Intensidad (Distancia desde la superficie de irradiación: 8 mm) :

    >45 mW/cm2

  • Aporte de nitrógeno :

    30Lpm

  • Potencia total :

    <400W

  • Voltaje de entrada (V) :

    AC220V
CONSULTE AHORA

  • Características principales

    01 Limpieza de alta velocidad

    Ofrece una velocidad de limpieza 10 veces superior a la de las lámparas de mercurio de baja presión tradicionales, lo que acelera enormemente los ciclos de procesamiento en línea o por lotes.

    02 Cambio individual

    Permite la conmutación individual de cada módulo de lámpara en función de la anchura de procesamiento, maximizando el equilibrio energético y prolongando la vida útil total de la lámpara.

    03 Funcionamiento a baja temperatura

    Evita daños térmicos en materiales sensibles al calor, manteniendo una temperatura superficial del sustrato estable que no supere estrictamente los 40 ℃.

    04 Bajo consumo de energía

    Arquitectura altamente ecológica que consume un 65 % menos de energía que las configuraciones estándar de lámparas de mercurio sin perder intensidad lumínica.

    05 Ahorra espacio

    Incorpora una fuente de alimentación muy compacta que permite alimentar sin esfuerzo todo el sistema de tratamiento dentro de líneas de producción automatizadas con espacio limitado.

    06 Fácil mantenimiento

    Diseñado para facilitar la limpieza y el mantenimiento rutinarios, lo que permite a los operarios realizar un cambio rápido de lámparas para evitar tiempos de inactividad operativa.

    07 Alta uniformidad

    Garantiza una uniformidad de irradiancia de ±15% en toda el área de irradiación designada, lo que aumenta significativamente la estabilidad del procesamiento por lotes.

     

    172 nm Dispositivo UV de alta energía

     

    El sistema de excímero ultravioleta (UV) de vacío de alta energía de 172 nm representa un cambio de paradigma en
    Limpieza industrial en seco y modificación de superficies a escala atómica.
    Diseñado para el empaquetado de semiconductores, el desarrollo de baterías de iones de litio y las líneas de fabricación de pantallas,
    Este sistema fotónico de alto flujo ataca la arquitectura molecular de los contaminantes orgánicos de la superficie.
    sin modificar las propiedades del sustrato.
     
    Al generar fotones de una sola longitud de onda de 172 nm de alta intensidad, el sistema proporciona una mecánica de limpieza de doble acción:
    rompiendo directamente enlaces químicos orgánicos críticos (C=C, CH, OH) y, simultáneamente, generando cúmulos de oxígeno singlete y ozono altamente reactivos a partir de ambientes ambientales o libres de nitrógeno.
    Los óxidos volátiles resultantes se desprenden fácilmente, dejando una superficie ultrapura y de alta hidrofilicidad, lista para procesos de microadhesión, recubrimiento o deposición.

    --------------占位---------------

    VIDEO DE LA OPERACIÓN

    Certificaciones y cumplimiento

    ISO Certificate
    ISO

    ISO 9001/14001

    Sistemas de gestión de calidad y medio ambiente certificados que garantizan una calibración uniforme de la producción.

    CE Certified Declaration
    CE

    Certificado CE

    Cumple plenamente con las normas europeas de salud laboral, seguridad de los sistemas y protección.

    ROHS Compliance Certificate
    RoHS

    Cumple con la normativa ROHS

    Arquitectura de hardware ecológica, libre de plomo, mercurio y elementos pesados ​​peligrosos restringidos.

    UL Safety Certificate
    UL

    Certificado por UL

    Cumple con los estrictos criterios norteamericanos de aislamiento eléctrico, conexión a tierra y seguridad operativa.

    Preguntas frecuentes

    Q ¿Por qué elegir la luz excimer de longitud de onda única de 172 nm en lugar de las lámparas de mercurio tradicionales de baja presión?

    Las lámparas de mercurio tradicionales emiten longitudes de onda amplias de 185 nm y 254 nm, que dependen en gran medida de reacciones secundarias de ozono. Nuestro sistema especializado de excímeros de 172 nm proyecta una energía fotónica de 7,2 eV, que coincide directamente con la energía del enlace covalente de los contaminantes orgánicos comunes (C=C, CH) y la rompe. Esto permite una limpieza en seco hasta 10 veces más rápida y elimina los riesgos de alta radiación térmica.

    Q ¿Cómo evita la función de conmutación individual la degradación prematura de la lámpara?

    A diferencia de las conexiones en serie secuenciales, donde la falla de una lámpara compromete todo el conjunto, nuestro sistema dirige balastos eléctricos aislados a cada tubo individual. Los usuarios pueden cambiar los módulos de forma independiente según los requisitos de ancho de la superficie del sustrato, lo que prolonga la vida útil de la estructura y simplifica el reemplazo en campo sin interrupciones.

    Q ¿Cuáles son los requisitos ambientales básicos para el funcionamiento del sistema EX-C300?

    El equipo industrial EX-C300 requiere una fuente de alimentación de CA 220 V, funcionamiento a temperatura ambiente estándar (de -5 °C a 50 °C) y un sistema de refrigeración por agua con recirculación a 25 °C. Para maximizar el rendimiento del procesamiento VUV y evitar la oxidación interna de la ventana, se recomienda un flujo constante de nitrógeno (N₂) de 30 l/min durante los ciclos de irradiación.
ETIQUETAS POPULARES :

Dispositivo de limpieza de superficies UV

máquina de limpieza de fotos

Dispositivo UV de alta energía

luz excímera de 172 nm

Dispositivo de tratamiento de superficie de materiales

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