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El Dispositivo UV de excímero de 172 nm entrega fotolimpieza de alta energía y modificación de la superficie a nivel nanométrico para semiconductores, baterías y materiales avanzados. Utilizando fotones UV fríos de 172 nm, este sistema compacto rompe los enlaces químicos orgánicos y oxida los contaminantes sin dañar el sustrato. Con una alta uniformidad de ±15% Con temperaturas de funcionamiento inferiores a 40 °C, ofrece una alternativa ecológica y de bajo consumo a las lámparas de mercurio de baja presión tradicionales.
Longitud de onda de 172 nm
> 45 mW/cm²Intensidad
30 litros por minutoAporte de nitrógeno
