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Para abordar el problema de la alta dependencia de fuentes de luz importadas en la fabricación de alta gama, GMY se ha asociado con fabricantes de equipos de procesamiento para llevar a cabo una investigación y desarrollo específicos. Aprovechando su experiencia tecnológica en fotolimpieza, fotopolimerización, modificación de superficies, esterilización de fluidos y tratamiento de gases residuales industriales, GMY ofrece soluciones de aplicaciones ópticas rentables que cumplen con los estrictos requisitos de proceso de las industrias de precisión con una emisión de radiación estable.
La radiación cuántica de alta energía de la luz ultravioleta de excímero de 172 nm descompone las cadenas moleculares de los contaminantes orgánicos en la superficie del material, a la vez que estimula el oxígeno bioactivo y los radicales libres. Esto oxida y degrada instantáneamente la materia orgánica residual en CO₂ y H₂O gaseosos, logrando un tratamiento de superficie ultralimpio, sin contacto y sin dejar rastro químico.
Ofrecemos soluciones de vanguardia ampliamente utilizadas en los siguientes campos:
Mediante la tecnología de curado y recubrimiento con excímeros de 172 nm, este proceso rompe directamente los enlaces moleculares del polímero utilizando una longitud de onda específica de alta energía, iniciando una reacción de reticulación de alta velocidad entre monómeros y oligómeros. En comparación con el curado UV de banda ancha tradicional, este proceso microreconstruye con precisión la superficie nivelada, logrando un efecto de recubrimiento microplegado uniforme en un tiempo extremadamente corto, lo que mejora significativamente la dureza y la resistencia al rayado de la superficie.
Adecuado para los siguientes campos:
Combinando una fuente de luz UV de 185 nm y una lámpara de excímero de 172 nm, se desencadena una potente reacción fotoquímica en las tuberías de fluidos. La división fotocatalítica de las moléculas de agua genera radicales hidroxilo altamente reactivos que oxidan y descomponen por completo el carbono orgánico total (COT) residual en el agua, transformándolo en CO₂ y H₂O. La fuente de luz de excímero de 172 nm, con su mayor energía fotónica, proporciona una reducción de COT altamente eficiente para sistemas de agua ultrapura y agua de ultra alta pureza (UPW).
Mejora de la energía superficial:
Mediante la irradiación con luz excímera de 172 nm, se rompen eficazmente las cadenas moleculares de hidrocarburos en la superficie de materiales no polares. La reacción fotoquímica introduce numerosos grupos hidrófilos polares, como los grupos hidroxilo (-OH) y carboxilo (-COOH), lo que incrementa significativamente la energía libre superficial del material. El sustrato tratado logra una modificación hidrófila completa, transformándose instantáneamente las microesferas en una película líquida uniformemente humectada sobre la superficie.
Titanio, papel de aluminio, etc.
Obleas de silicio, sustratos de vidrio ITO.
PP, PC, PE, PMMA, PET, PVC, PS.
Vea en acción nuestras aplicaciones de fuentes de luz excimer avanzadas de 172 nm, líneas de inspección de calidad de precisión y flujos de trabajo de producción automatizados.
Asóciese con GMY para obtener lámparas de excímero de 172 nm robustas y sistemas de fotolimpieza personalizables adaptados a los estándares de su industria.
