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Las sustancias perfluoroalquiladas y polifluoroalquiladas (PFAS), una clase de contaminantes orgánicos persistentes nuevos, tóxicos y altamente bioacumulativos, son extremadamente difíciles de degradar mediante procesos tradicionales de remediación ecológica del agua. Para abordar este desafío ambiental global, la investigación ambiental empírica más reciente de Japón ha propuesto una nueva dirección tecnológica: la utilización de radiación de alta energía de luz excimer de 172 nm para la fotólisis y el tratamiento inocuo, lo que proporciona un método de eliminación física altamente eficiente para estos compuestos orgánicos persistentes.
Antecedentes técnicos: El dilema de la remediación de PFAS: "sustancias químicas permanentes".
Las PFAS (sustancias perfluoroalquiladas y polifluoroalquiladas) son compuestos orgánicos sintéticos típicos. Debido a los enlaces carbono-flúor extremadamente fuertes en su estructura molecular, poseen una excelente estabilidad química, resistencia al calor y propiedades hidrofóbicas y oleofóbicas, y se utilizan ampliamente en diversos productos industriales y de consumo. Dado que prácticamente no se degradan espontáneamente en la naturaleza, la industria las denomina figurativamente "sustancias químicas permanentes", lo que supone un grave y persistente desafío para la seguridad del agua.
Mecanismo de fotólisis de excímeros a 172 nm y eficiencia cuantitativa
El flujo del proceso y el mecanismo principal de la fotólisis de PFAS con excímeros de 172 nm son los siguientes:
Diagrama de flujo del proceso: En primer lugar, las sustancias PFAS presentes en el fluido se extraen y se agregan a una alta velocidad mediante tecnología de recuperación y concentración previa al tratamiento.
Mecanismo de reacción: Posteriormente, se introduce una fuente de luz de excímero de 172 nm para generar radiación cuántica de alta energía. Bajo la acción sinérgica y de alta velocidad de las moléculas de agua, los radicales hidroxilo altamente reactivos (·OH) y los electrones, las cadenas moleculares se rompen directamente.
Evidencia empírica: Los datos experimentales confirman que, incluso a altas concentraciones de mg/L, el PFOA (ácido perfluorooctanoico) y el PFOS (ácido perfluorooctanosulfónico) en el agua pueden alcanzar una tasa de degradación y eliminación de aproximadamente el 99 % dentro de un ciclo de reacción específico.
GMY: Proveedor de soluciones de fuentes de luz excimer de 172 nm de grado industrial
GMY, aprovechando su amplia experiencia tecnológica en el campo de las fuentes de luz eléctrica especiales, ha desarrollado una completa matriz de I+D en tecnología de luz excimer de 172 nm. Más allá del tratamiento de agua de vanguardia y la degradación de contaminantes persistentes, nuestras soluciones modulares se utilizan ampliamente en procesos clave como la fotolimpieza industrial, la fotopolimerización de alta eficiencia, la modificación hidrofóbica de superficies y la reducción de la concentración de carbono orgánico total (COT) en la producción de agua ultrapura.
Suministramos continuamente componentes de fuentes de luz especializadas de alta consistencia y servicios OEM/ODM personalizados a instituciones de investigación, fabricantes de alta gama y empresas modernas de ingeniería ambiental, utilizando tecnología fotónica de vanguardia para superar las limitaciones de la gobernanza ambiental en diversas industrias.
